Beiträge zur Chemie des Siliciums und Germaniums. Darstellung von Rohsilan in einem 1-l-Reaktor

• 作者Prof. Dr. F. Fehér; Dr. D. Schinkitz; Dr. H. Strack
• 卷第385卷
• 期第3期
• 印刷ISSN0044-2313
• 电子ISSN1521-3749
• 文件大小370.35KB
• 发表时间1971
• DOI10.1002/zaac.19713850303
• 页码202-208