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The kinetics of open tube phosphorus diffusion in silicon

The kinetics of open tube phosphorus diffusion in silicon

R.N. Ghoshtagore
  • 作者R.N. Ghoshtagore
  • 卷第21卷
  • 期第10期
  • 印刷ISSN0038-1101
  • 文件大小418.12KB
  • 发表时间1978
  • DOI10.1016/0038-1101(78)90372-6
  • 页码1239-1243
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