Hydrogen in semi-insulating polycrystalline silicon films
Knolle, W. R.; Maxwell, H. R.; Benenson, R. E.
- 期刊名称Journal of Applied Physics
- 作者Knolle, W. R.; Maxwell, H. R.; Benenson, R. E.
- 卷第51卷
- 期第8期
- 印刷ISSN0021-8979
- 文件大小677.49KB
- 发表时间1980
- DOI10.1063/1.328302