Recoil implantation of oxygen from SiO2 thin films on silicon

• 作者B. Villepelet; F. Ferrieu; A. Grouillet; A. Golanski; J.P. Gailliard; E. Ligeon
• 印刷ISSN0029-554X
• 文件大小265.26KB
• 发表时间1981
• DOI10.1016/0029-554x(81)90681-9
• 页码137-141