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An Optimally Designed Process for Submicrometer MOSFET's

An Optimally Designed Process for Submicrometer MOSFET's

Shibata, T.; Hieda, K.; Sato, M.; Konaka, M.; Ryo Luong; Mo Dang; Iizuka, H.

作者Shibata, T.; Hieda, K.; Sato, M.; Konaka, M.; Ryo Luong; Mo Dang; Iizuka, H.
卷第17卷
期第2期
文件大小876.15KB
发表时间1982
DOI10.1109/jssc.1982.1051710
页码161-165

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