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The preparation of device quality gallium phosphide by metal organic chemical vapor deposition

The preparation of device quality gallium phosphide by metal organic chemical vapor deposition

Robert M. Biefeld

作者Robert M. Biefeld
卷第56卷
期第2期
印刷ISSN0022-0248
文件大小595.20KB
发表时间1982
DOI10.1016/0022-0248(82)90457-2
页码382-388

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