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Excimer laser enhanced nitridation of silicon substrates

Excimer laser enhanced nitridation of silicon substrates

Sugii, Toshihiro; Ito, Takashi; Ishikawa, Hajime
  • 期刊名称Applied Physics Letters
  • 作者Sugii, Toshihiro; Ito, Takashi; Ishikawa, Hajime
  • 卷第45卷
  • 期第9期
  • 印刷ISSN0003-6951
  • 文件大小395.45KB
  • 发表时间1984
  • DOI10.1063/1.95466
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