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Residual damage in B
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and –implanted Si

Residual damage in B ⁺ and –implanted Si

Vandervorst, W.; Houghton, D. C.; Shepherd, F. R.; Swanson, M. L.; Plattner, H. H.; Carpenter, G. J. C.

期刊名称Canadian Journal of Physics
作者Vandervorst, W.; Houghton, D. C.; Shepherd, F. R.; Swanson, M. L.; Plattner, H. H.; Carpenter, G. J. C.
卷第63卷
期第6期
印刷ISSN0008-4204
电子ISSN1208-6045
文件大小871.96KB
发表时间1985-06
DOI10.1139/p85-140
页码863-869

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