MOCVD GaAs growth on Ge (100) and Si (100) substrates
K. Mizuguchi; N. Hayafuji; S. Ochi; T. Murotani; K. Fujikawa
- 作者K. Mizuguchi; N. Hayafuji; S. Ochi; T. Murotani; K. Fujikawa
- 卷第77卷
- 印刷ISSN0022-0248
- 文件大小518.95KB
- 发表时间1986
- DOI10.1016/0022-0248(86)90345-3
- 页码509-514