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ChemInform Abstract: Thin Film Properties of Sputtered Niobium Silicide on SiO
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ChemInform Abstract: Thin Film Properties of Sputtered Niobium Silicide on SiO ₂ , Si ₃ N ₄ , and N+ Poly-Si.

CHOW, T. P.; LU, W. J.; STECKL, A. J.; BALIGA, B. J.

期刊名称Chemischer Informationsdienst
作者CHOW, T. P.; LU, W. J.; STECKL, A. J.; BALIGA, B. J.
卷第17卷
期第19期
印刷ISSN0009-2975
文件大小211.66KB
发表时间1986-05-13
DOI10.1002/chin.198619329

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