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Doped oxide gallium diffusion in silicon: A simple open tube technique

Doped oxide gallium diffusion in silicon: A simple open tube technique

Ramamurthy, V.; Subrahmanyam, J.

作者Ramamurthy, V.; Subrahmanyam, J.
卷第5卷
期第9期
文件大小309.45KB
发表时间1987
DOI10.1016/0167-577X(87)90128-5
页码365-368

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