On the silicon dioxide/polycrystalline silicon interface width measurement

• 作者G. Queirolo; S. Manzini; L. Meda; M. Anderle; R. Canteri; A. Armigliato; S. Frabboni
• 卷第13卷
• 期第4期
• 印刷ISSN0142-2421
• 电子ISSN1096-9918
• 文件大小616.03KB
• 发表时间1988
• DOI10.1002/sia.740130406
• 页码202-208