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PLASMA ANODISATION OF SILICON FOR ADVANCED VLSI

TAYLOR, S.; ECCLESTON, W.; RINGNALDA, J.; MAHER, D. M.; EAGLESHAM, D. J.; HUMPHREYS, C. J.; GODFREY, D. J.

期刊名称Le Journal de Physique Colloques
作者TAYLOR, S.; ECCLESTON, W.; RINGNALDA, J.; MAHER, D. M.; EAGLESHAM, D. J.; HUMPHREYS, C. J.; GODFREY, D. J.
卷第49卷
印刷ISSN0449-1947
文件大小1885.43KB
发表时间1988-09
DOI10.1051/jphyscol:1988482