Novel photoresist design based on electrophilic aromatic substitution

• 作者B. Reck; R. D. Allen; R. J. Twieg; C. G. Willson; S. Matuszczak; H. D. H. Stover; N. H. Li; J. M. J. Fréchet
• 卷第29卷
• 期第14期
• 印刷ISSN0032-3888
• 电子ISSN1548-2634
• 文件大小536.88KB
• 发表时间1989
• DOI10.1002/pen.760291415
• 页码960-964