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Low-temperature annealing of heavily ion-implanted layer

Low-temperature annealing of heavily ion-implanted layer

Tadahiro Ohmi; Yoshio Ishihara; Tadashi Shibata; Akira Okita
  • 作者Tadahiro Ohmi; Yoshio Ishihara; Tadashi Shibata; Akira Okita
  • 卷第73卷
  • 期第6期
  • 印刷ISSN8756-663X
  • 电子ISSN1520-6432
  • 文件大小498.23KB
  • 发表时间1990
  • DOI10.1002/ecjb.4420730610
  • 页码86-91
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