The influence of deposition parameters on the growth of a-SiGe:H alloys in a plasma CVD system

• 作者M. Zeman; I. Ferreira; M.J. Geerts; J.W. Metselaar
• 卷第46卷
• 印刷ISSN0169-4332
• 文件大小386.11KB
• 发表时间1990
• DOI10.1016/0169-4332(90)90151-o
• 页码245-248