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Modeling of Silicon Etching in CF[sub 4]∕O[sub 2] and CF[sub 4]∕H[sub 2] Plasmas

Modeling of Silicon Etching in CF[sub 4]∕O[sub 2] and CF[sub 4]∕H[sub 2] Plasmas

Venkatesan, Suresh P.
  • 期刊名称Journal of The Electrochemical Society
  • 作者Venkatesan, Suresh P.
  • 卷第137卷
  • 期第7期
  • 印刷ISSN0013-4651
  • 文件大小990.23KB
  • 发表时间1990
  • DOI10.1149/1.2086928
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