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Resist degradation under plasma exposure: Synergistic effects of ion bombardment

Joubert, O.; Fiori, C.; Oberlin, J. C.; Paniez, P.; Pelletier, J.; Pons, M.; Vachette, T.; Weill, A.

期刊名称Journal of Applied Physics
作者Joubert, O.; Fiori, C.; Oberlin, J. C.; Paniez, P.; Pelletier, J.; Pons, M.; Vachette, T.; Weill, A.
卷第69卷
期第3期
印刷ISSN0021-8979
文件大小856.78KB
发表时间1991
DOI10.1063/1.347214