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A model of low temperature silicon compound material growth kinetics

A model of low temperature silicon compound material growth kinetics

Wolfgang Losch
  • 作者Wolfgang Losch
  • 卷第216卷
  • 期第2期
  • 印刷ISSN0040-6090
  • 文件大小497.73KB
  • 发表时间1992
  • DOI10.1016/0040-6090(92)90841-x
  • 页码225-229
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