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Crystallization-induced stress in silicon thin films

Crystallization-induced stress in silicon thin films

Miura, Hideo; Ohta, Hiroyuki; Okamoto, Noriaki; Kaga, Toru
  • 期刊名称Applied Physics Letters
  • 作者Miura, Hideo; Ohta, Hiroyuki; Okamoto, Noriaki; Kaga, Toru
  • 卷第60卷
  • 期第22期
  • 印刷ISSN0003-6951
  • 文件大小636.98KB
  • 发表时间1992
  • DOI10.1063/1.106864
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