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Study of gate oxide damage in an electron cyclotron resonance argon plasma

Study of gate oxide damage in an electron cyclotron resonance argon plasma

Felch, S. B.
  • 期刊名称Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures
  • 作者Felch, S. B.
  • 卷第10卷
  • 期第4期
  • 印刷ISSN0734-211X
  • 文件大小513.75KB
  • 发表时间1992-7
  • DOI10.1116/1.585861
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