Electron desorption study of HF etched Si(100)

• 期刊名称Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films
• 作者Craig, J. H.; Cariss, C.; Craig, M. J.
• 卷第11卷
• 期第3期
• 印刷ISSN0734-2101
• 电子ISSN1520-8559
• 文件大小444.12KB
• 发表时间1993-05
• DOI10.1116/1.578771
• 页码554-556