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Thermally stable ternary titanium-tantalum silicide formation on polycrystalline silicon

Choi, J. S.; Paek, S. H.; Hwang, Y. S.; Kang, S. G.; Cho, H. C.; Oh, J. E.; Shim, T. E.; Lee, S. I.; Lee, J. K.; Lee, J. G.

期刊名称Journal of Applied Physics
作者Choi, J. S.; Paek, S. H.; Hwang, Y. S.; Kang, S. G.; Cho, H. C.; Oh, J. E.; Shim, T. E.; Lee, S. I.; Lee, J. K.; Lee, J. G.
卷第74卷
期第2期
印刷ISSN0021-8979
文件大小557.42KB
发表时间1993
DOI10.1063/1.354861