etched by helium ions

• 期刊名称Physical Review B
• 作者Nishi, Yoshitake; Takahashi, Yasuo; Takagi, Seiichiro; Sudo, Takashi; Inoue, Noriyuki; Shima, Toshio
• 卷第48卷
• 期第1期
• 印刷ISSN0163-1829
• 电子ISSN1095-3795
• 文件大小28.85KB
• 发表时间1993-7-1
• DOI10.1103/PhysRevB.48.665
• 页码665-665