Effects of a stress field on boron ion implantation damage in silicon
- 期刊名称Journal of Applied Physics
- 作者Mis, J. D.; Mader, S. R.; Beshers, D. N.
- 卷第74卷
- 期第4期
- 印刷ISSN0021-8979
- 文件大小1092.83KB
- 发表时间1993
- DOI10.1063/1.354713
AbstractsF. Donat; D. R. Bevan; R. K. Baumgarten; J. L. Brown; H. K. Gyasi; M. Naguib; Adu-Gyamfi; R. Woodey; R. Morris; G. Graham; R. Torda; R. J. Hudson; I. R. Thomson; J. E. Cannon; R. M. Friesen; R. C. Meatherall; F. Chung; D. Evans; J. Stock; A. D. Sutherland; R. Coombs; R. Saunders; S. Savage; L. Jensen; C. Murphy; J. M. Murkin; J. K. Farrar; W. A. Tweed; G. Guiraudon; F. N. McKenzie; S. Tarn; F. Chung; J. M. Campbell; K. F. Harder; J. Fay; E. S. Shelley; G. Plourde; J. F. Hardy; A. I. MacDonald; H. Carle; D. Vincent; D. Legatt; D. J. Doyle; P. McCulloch; B. Milne; B. Newman; A. M. Lam; D. J. Cuillerier; R. Martin; P. Léna; Y. Lamarche; R. Black; D. Crawford; A. B. Froese; P. Butler; S. C. Brown; A. M. Lam; P. H. Manninen; R. L. Knill; C. E. Famewo; M. Naguib; J. Fleming; A. Walker; T. Lambert; F. Lah; W. R. Giles; B. J. Trudinger; B. Ahuja; L. Strunin; P. M. Chovaz; A. N. Sandier; D. G. Selby; A. H. Ilsley; J. Plummer; W. Runciman; M. Cousins; P. Ravussin; D. Archer; E. Meyer; M. Abou-Madi; D. Trop; P. Manninen; G. Ferguson; W. Blume; A. J. Cunningham; N. O’Higgins; W. McNicholas; L. A. Doolan; K. A. Williams; R. A. Barker; E. A. Moffitt; D. D. Imrie; C. L. Cousins; J. A. Sullivan; C. E. Kinley; D. A. Murphy; E. A. Moffitt; A. J. McIntyre; J. J. Glenn; D. D. Imrie; C. L. Cousins; C. E. Kinley; J. A. Sullivan; D. A. Murphy; P. D. James; G. A. Volgyesi; F. Burrows; G. Johnson; C. Loomis; B. Milne; F. Cervenko; D. Brunet; P. N. Fyman; K. Goodman; J. Hartung; D. Aaron; A. Ergin; S. E. Kowalski; A. Downs; C. Lye; L. Oppenheimer; R. Kozody; P. C. Duke; J. G. Wade; R. Kozody; J. Parrott; P. C. Duke; J. G. Wade; R. Kozody; P. C. Duke; J. G. Wade; R. Kozody; J. Parrott; P. C. Duke; J. G. Wade; M. C. Michoud; R. Amyot; S. St-Jean; D. Chapleau; J. Couture; J. M. Badgwell; J. E. Heavner; E. Cockings; M. W. Cooper; L. L. Maloney; D. W. Coombs; M. P. Yeager; M. Vanier; V. Vikis-Freiberg; J. Couture; G. A. Weston; S. H. Roth; P. D. James; G. A. Volgyesi; F. Burrows; G. L. Wolf; C. C · 1985
AbstractsF. Donat; D. R. Bevan; R. K. Baumgarten; J. L. Brown; H. K. Gyasi; M. Naguib; Adu-Gyamfi; R. Woodey; R. Morris; G. Graham; R. Torda; R. J. Hudson; I. R. Thomson; J. E. Cannon; R. M. Friesen; R. C. Meatherall; F. Chung; D. Evans; J. Stock; A. D. Sutherland; R. Coombs; R. Saunders; S. Savage; L. Jensen; C. Murphy; J. M. Murkin; J. K. Farrar; W. A. Tweed; G. Guiraudon; F. N. McKenzie; S. Tarn; F. Chung; J. M. Campbell; K. F. Harder; J. Fay; E. S. Shelley; G. Plourde; J. F. Hardy; A. I. MacDonald; H. Carle; D. Vincent; D. Legatt; D. J. Doyle; P. McCulloch; B. Milne; B. Newman; A. M. Lam; D. J. Cuillerier; R. Martin; P. Léna; Y. Lamarche; R. Black; D. Crawford; A. B. Froese; P. Butler; S. C. Brown; A. M. Lam; P. H. Manninen; R. L. Knill; C. E. Famewo; M. Naguib; J. Fleming; A. Walker; T. Lambert; F. Lah; W. R. Giles; B. J. Trudinger; B. Ahuja; L. Strunin; P. M. Chovaz; A. N. Sandier; D. G. Selby; A. H. Ilsley; J. Plummer; W. Runciman; M. Cousins; P. Ravussin; D. Archer; E. Meyer; M. Abou-Madi; D. Trop; P. Manninen; G. Ferguson; W. Blume; A. J. Cunningham; N. O’Higgins; W. McNicholas; L. A. Doolan; K. A. Williams; R. A. Barker; E. A. Moffitt; D. D. Imrie; C. L. Cousins; J. A. Sullivan; C. E. Kinley; D. A. Murphy; E. A. Moffitt; A. J. McIntyre; J. J. Glenn; D. D. Imrie; C. L. Cousins; C. E. Kinley; J. A. Sullivan; D. A. Murphy; P. D. James; G. A. Volgyesi; F. Burrows; G. Johnson; C. Loomis; B. Milne; F. Cervenko; D. Brunet; P. N. Fyman; K. Goodman; J. Hartung; D. Aaron; A. Ergin; S. E. Kowalski; A. Downs; C. Lye; L. Oppenheimer; R. Kozody; P. C. Duke; J. G. Wade; R. Kozody; J. Parrott; P. C. Duke; J. G. Wade; R. Kozody; P. C. Duke; J. G. Wade; R. Kozody; J. Parrott; P. C. Duke; J. G. Wade; M. C. Michoud; R. Amyot; S. St-Jean; D. Chapleau; J. Couture; J. M. Badgwell; J. E. Heavner; E. Cockings; M. W. Cooper; L. L. Maloney; D. W. Coombs; M. P. Yeager; M. Vanier; V. Vikis-Freiberg; J. Couture; G. A. Weston; S. H. Roth; P. D. James; G. A. Volgyesi; F. Burrows; G. L. Wolf; C. C · 1985
Book reviewsD. V. Carton; Peter C. Duke; Joan C. Bevan; Paul E. Otton; B. Mezon; René Martin; R. M. Humble · 1983
Book reviewsPeter C. Duke; Joan C. Bevan; Jean -Pierre Tettault; B. C Holt; John W. Sandison · 1984
Regulators of cell division in plant tissuesC. W. Parker; D. S. Letham; B. I. Gollnow; R. E. Summons; C. C. Duke; J. K. MacLeod · 1978
An explosion of technologyJoseph C. Greenfield Jr.; James B. Duke · 1988
Australia: The Conning of AgeAllen C. Kelley; James B. Duke · 1988
The electronic structure of dialkylbenzenesLipari, N. O.; Duke, C. B. · The Journal of Chemical Physics · 1975
Proximity effect correction for nanolithographyRau, Richard · Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures · 1996
Lithography with 157 nm lasersBloomstein, T. M. · Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures · 1997
X-ray lithographyHeuberger, A. · Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures · 1988
Resolution limits of optical lithographyOkazaki, Shinji · Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures · 1991
Review of scanning force microscopySarid, Dror · Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures · 1991
Diamond nanorodsShenderova, O. A.; Padgett, C. W.; Hu, Z.; Brenner, D. W. · Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures · 2005
Dielectric/semiconductor interfacesWieder, H. H. · Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures · 1993
Two-dimensional carrier profilingVandervorst, W. · Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures · 1992