Effects of Sputtering and Plasma Etching on the Surface Reactivity of Graphite

• 作者Marilyn J. Nowakowski; John M. Vohs; Dawn A. Bonnell
• 卷第76卷
• 期第2期
• 印刷ISSN0002-7820
• 电子ISSN1551-2916
• 文件大小556.74KB
• 发表时间1993
• DOI10.1111/j.1151-2916.1993.tb03780.x
• 页码279-283