Fabrication of smooth facets of InP by selective sidewall epitaxy using CBE
M. Gotoda; H. Sugimoto; S. Maruno; T. Isu; W. Susaki; M. Nunoshita
- 作者M. Gotoda; H. Sugimoto; S. Maruno; T. Isu; W. Susaki; M. Nunoshita
- 印刷ISSN0169-4332
- 文件大小699.36KB
- 发表时间1994
- DOI10.1016/0169-4332(94)90199-6
- 页码80-84