Deposition and characterization of indium oxide and indium tin oxide semiconducting thin films by reactive thermal deposition technique
- 作者P. Thilakan; S. Kalainathan; J. Kumar; P. Ramasamy
- 卷第24卷
- 期第6期
- 印刷ISSN0361-5235
- 电子ISSN1543-186X
- 文件大小726.41KB
- 发表时间1995-06
- DOI10.1007/bf02659730
- 页码719-724
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