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Numerical simulation of the thermal oxidation of silicon in N2O ambient

Numerical simulation of the thermal oxidation of silicon in N2O ambient

G.V Gadiyak; J.L Korobitsina

作者G.V Gadiyak; J.L Korobitsina
卷第38卷
期第5期
印刷ISSN0038-1101
文件大小130.93KB
发表时间1995
DOI10.1016/0038-1101(95)98685-v
页码1113-1114

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