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Fast interfacial oxidation of amorphous Si1−xGex:H by SnO2

Fast interfacial oxidation of amorphous Si1−xGex:H by SnO2

Edelman, F.; Brener, R.; Cytermann, C.; Eizenberg, M.; Weil, R.; Beyer, W.

期刊名称Applied Physics Letters
作者Edelman, F.; Brener, R.; Cytermann, C.; Eizenberg, M.; Weil, R.; Beyer, W.
卷第67卷
期第3期
印刷ISSN0003-6951
文件大小323.05KB
发表时间1995
DOI10.1063/1.114638

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