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Large-field (> 20 × 25 mm2) replication by EUV lithography

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Tsuneyuki Haga; Marcia C.K. Tinone; Hisataka Takenaka; Hiroo Kinoshita

作者Tsuneyuki Haga; Marcia C.K. Tinone; Hisataka Takenaka; Hiroo Kinoshita
卷第30卷
印刷ISSN0167-9317
文件大小1134.61KB
发表时间1996
DOI10.1016/0167-9317(95)00221-9
页码179-182

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