Impurity dependence of oxide defects in Czochralski silicon

• 期刊名称Journal of Applied Physics
• 作者Itsumi, Manabu; Akiya, Hideo; Tomita, Masato; Ueki, Takemi; Yamawaki, Masataka
• 卷第80卷
• 期第12期
• 印刷ISSN0021-8979
• 文件大小420.04KB
• 发表时间1996
• DOI10.1063/1.363790