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A large-area ECR processing plasma

W. Miyazawa; S. Tada; K. Ito; H. Saito; S. Den; Y. Hayashi; Y. Okamoto; Y. Sakamoto

作者W. Miyazawa; S. Tada; K. Ito; H. Saito; S. Den; Y. Hayashi; Y. Okamoto; Y. Sakamoto
文件大小113.32KB
发表时间1996
DOI10.1088/0963-0252/5/2/021