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Copper contamination effects in 0.5 μm BiCMOS technology

Copper contamination effects in 0.5 μm BiCMOS technology

T. Gravier; F. Braud; J. Torres; J. Palleau; A. Chantre; J. Kirtsch

作者T. Gravier; F. Braud; J. Torres; J. Palleau; A. Chantre; J. Kirtsch
卷第33卷
印刷ISSN0167-9317
文件大小241.16KB
发表时间1997
DOI10.1016/s0167-9317(96)00047-0
页码211-216

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