ChemInform Abstract: Electrochemical Deposition of Copper(I) Oxide Films.
T. D. GOLDEN; M. G. SHUMSKY; Y. ZHOU; R. A. VANDERWERF; R. A. VAN LEEUWEN; J. A. SWITZER
- 作者T. D. GOLDEN; M. G. SHUMSKY; Y. ZHOU; R. A. VANDERWERF; R. A. VAN LEEUWEN; J. A. SWITZER
- 卷第28卷
- 期第4期
- 印刷ISSN0931-7597
- 电子ISSN1522-2667
- 文件大小26.11KB
- 发表时间1997
- DOI10.1002/chin.199704020