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Structural characterization of radiofrequency magnetron sputter deposited SiO
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              thin films

Structural characterization of radiofrequency magnetron sputter deposited SiO 2 thin films

Li, Boquan; Fujimoto, Toshiyuki; Kojima, Isao
  • 期刊名称Journal of Physics D: Applied Physics
  • 作者Li, Boquan; Fujimoto, Toshiyuki; Kojima, Isao
  • 卷第32卷
  • 期第12期
  • 印刷ISSN0022-3727
  • 电子ISSN1361-6463
  • 文件大小129.95KB
  • 发表时间1999-06-21
  • DOI10.1088/0022-3727/32/12/302
  • 页码1287-1292
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