High resolution reactive ion etching of GaN and etch-induced effects
R. Cheung; R. J. Reeves; B. Rong; S. A. Brown; E. J. M. Fakkeldij; E. Van Der Drift; M. Kamp
- 作者R. Cheung; R. J. Reeves; B. Rong; S. A. Brown; E. J. M. Fakkeldij; E. Van Der Drift; M. Kamp
- 文件大小701.63KB
- 发表时间1999
- DOI10.1116/1.591059