CD control using SiON BARL processing for sub-0.25 μm lithography
F. Zhang; M. Op de Beeck; M. Schaekers; K. Ronse; W. Conley; P. Gopalan; H. Gangala; M. Dusa; J. Bendik
- 作者F. Zhang; M. Op de Beeck; M. Schaekers; K. Ronse; W. Conley; P. Gopalan; H. Gangala; M. Dusa; J. Bendik
- 卷第46卷
- 印刷ISSN0167-9317
- 文件大小342.35KB
- 发表时间1999
- DOI10.1016/s0167-9317(99)00013-1
- 页码51-54