Fabrication of masks for electron-beam projection lithography
M. Lercel; C. Magg; M. Barrett; K. Collins; M. Trybendis; N. Caldwell; R. Jeffer; L. Bouchard
- 作者M. Lercel; C. Magg; M. Barrett; K. Collins; M. Trybendis; N. Caldwell; R. Jeffer; L. Bouchard
- 文件大小864.53KB
- 发表时间2000
- DOI10.1116/1.1314370