Pure Al thin film protective layer to prevent stress migration in Al wiring for thin-film transistors
H. Takatsuji; K. Haruta; S. Tsuji; K. Kuroda; H. Saka
- 作者H. Takatsuji; K. Haruta; S. Tsuji; K. Kuroda; H. Saka
- 卷第125卷
- 印刷ISSN0257-8972
- 文件大小1070.98KB
- 发表时间2000
- DOI10.1016/s0257-8972(99)00599-x
- 页码167-172