Space-charge effects in projection electron-beam lithography: Results from the SCALPEL proof-of-lithography system
J. A. Liddle; M. I. Blakey; K. Bolan; R. C. Farrow; G. M. Gallatin; R. Kasica; V. Katsap; C. S. Knurek; J. Li; M. Mkrtchyan; A. E. Novembre; L. Ocola; P. A. Orphanos; M. L. Peabody; S. T. Stanton; K. Teffeau; W. K. Waskiewicz; E. Munro
- 作者J. A. Liddle; M. I. Blakey; K. Bolan; R. C. Farrow; G. M. Gallatin; R. Kasica; V. Katsap; C. S. Knurek; J. Li; M. Mkrtchyan; A. E. Novembre; L. Ocola; P. A. Orphanos; M. L. Peabody; S. T. Stanton; K. Teffeau; W. K. Waskiewicz; E. Munro
- 文件大小804.27KB
- 发表时间2001
- DOI10.1116/1.1359174