Selective plasma nitridation and contrast reversed etching of silicon

S. Sharma; M. K. Sunkara; M. M. Crain; S. F. Lyuksyutov; S. A. Harfenist; K. M. Walsh; R. W. Cohn

作者S. Sharma; M. K. Sunkara; M. M. Crain; S. F. Lyuksyutov; S. A. Harfenist; K. M. Walsh; R. W. Cohn
文件大小725.24KB
发表时间2001
DOI10.1116/1.1395616

发现好书期刊，享受阅读乐趣