Excimer-laser-induced micropatterning of silicon dioxide on silicon substrates

• 作者J.J. Yu; J.Y. Zhang; I.W. Boyd; Y.F. Lu
• 卷第72卷
• 期第1期
• 印刷ISSN0947-8396
• 电子ISSN1432-0630
• 文件大小235.95KB
• 发表时间2001-01
• DOI10.1007/s003390000716
• 页码35-39