Digital electrostatic electron-beam array lithography
L. R. Baylor; D. H. Lowndes; M. L. Simpson; C. E. Thomas; M. A. Guillorn; V. I. Merkulov; J. H. Whealton; E. D. Ellis; D. K. Hensley; A. V. Melechko
- 作者L. R. Baylor; D. H. Lowndes; M. L. Simpson; C. E. Thomas; M. A. Guillorn; V. I. Merkulov; J. H. Whealton; E. D. Ellis; D. K. Hensley; A. V. Melechko
- 卷第20卷
- 期第6期
- 文件大小620.21KB
- 发表时间2002
- DOI10.1116/1.1520559