Recent advances in resists for 157 nm microlithography

B. C. Trinque; T. Chiba; R. J. Hung; C. R. Chambers; M. J. Pinnow; B. P. Osborn; H. V. Tran; J. Wunderlich; Y. Hsieh; B. H. Thomas; G. Shafer; D. D. Desmarteau; W. Conley; C. G. Willson

作者B. C. Trinque; T. Chiba; R. J. Hung; C. R. Chambers; M. J. Pinnow; B. P. Osborn; H. V. Tran; J. Wunderlich; Y. Hsieh; B. H. Thomas; G. Shafer; D. D. Desmarteau; W. Conley; C. G. Willson
文件大小802.56KB
发表时间2002
DOI10.1116/1.1450589

发现好书期刊，享受阅读乐趣

Recent advances in resists for 157 nm microlithography