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Profile Changes and Self-sputtering during Low Energy Ion Implantation.

Vandervorst, W.; Janssens, T.; Brijs, B.; Lindsay, R.; Collart, E. J. H.; Kirkwood, David A.; Mathot, G.; Terwagne, G.

期刊名称MRS Proceedings
作者Vandervorst, W.; Janssens, T.; Brijs, B.; Lindsay, R.; Collart, E. J. H.; Kirkwood, David A.; Mathot, G.; Terwagne, G.
卷第717卷
电子ISSN1946-4274
文件大小436.53KB
发表时间2002-1
DOI10.1557/proc-717-c7.2