Depth profile analysis of ion-implanted photoresist by infrared spectroscopy

• 作者N. Nagai; T. Imai; K. Terada; H. Seki; H. Okumura; H. Fujino; T. Yamamoto; I. Nishiyama; A. Hatta
• 卷第33卷
• 期第7期
• 印刷ISSN0142-2421
• 电子ISSN1096-9918
• 文件大小365.13KB
• 发表时间2002
• DOI10.1002/sia.1415
• 页码545-551