Reliability improvement of rapid thermal oxide using gas switching

• 期刊名称IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing
• 作者Min Hung Lee, ; Cheng-Ya Yu, ; Fon Yuan, ; Chen, K.-F.; Chang-Chi Lai, ; Chee Wee Liu,
• 卷第16卷
• 期第4期
• 印刷ISSN0894-6507
• 文件大小310.77KB
• 发表时间2003-11
• DOI10.1109/tsm.2003.818982
• 页码656-659