First dynamic exposure results from an electron projection lithography tool
K. Suzuki; T. Fujiwara; S. Kojima; N. Hirayanagi; T. Yahiro; J. Udagawa; S. Shimizu; H. Yamamoto; M. Suzuki; H. Takekoshi; S. Fukui; M. Hamashima; J. Ikeda; T. Okino; H. Shimizu; S. Takahashi; A. Yamada; T. Umemoto; S. Katagiri; Y. Ohkubo; T. Shimoda; K. Hirose; T. Tanida; Y. Watanabe; T. Kaminaga; Y. Kohama; F. Mori; S. Takemoto; T. Yoshioka; H. Hirose; K. Morita; K. Hada; S. Kawata; T. Sato; Y. Sato; M. Tokunaga; K. Okamoto; Y. Kakizaki; T. Miura
- 作者K. Suzuki; T. Fujiwara; S. Kojima; N. Hirayanagi; T. Yahiro; J. Udagawa; S. Shimizu; H. Yamamoto; M. Suzuki; H. Takekoshi; S. Fukui; M. Hamashima; J. Ikeda; T. Okino; H. Shimizu; S. Takahashi; A. Yamada; T. Umemoto; S. Katagiri; Y. Ohkubo; T. Shimoda; K. Hirose; T. Tanida; Y. Watanabe; T. Kaminaga; Y. Kohama; F. Mori; S. Takemoto; T. Yoshioka; H. Hirose; K. Morita; K. Hada; S. Kawata; T. Sato; Y. Sato; M. Tokunaga; K. Okamoto; Y. Kakizaki; T. Miura
- 文件大小1354.00KB
- 发表时间2003
- DOI10.1116/1.1629287