SIMS round-robin study of depth profiling of arsenic implants in silicon

M. Tomita; T. Hasegawa; S. Hashimoto; S. Hayashi; Y. Homma; S. Kakehashi; Y. Kazama; K. Koezuka; H. Kuroki; K. Kusama; Z. Li; S. Miwa; S. Miyaki; Y. Okamoto; K. Okuno; S. Saito; S. Sasaki; H. Shichi; H. Shinohara; F. Toujou; Y. Ueki; Y. Yamamoto

作者M. Tomita; T. Hasegawa; S. Hashimoto; S. Hayashi; Y. Homma; S. Kakehashi; Y. Kazama; K. Koezuka; H. Kuroki; K. Kusama; Z. Li; S. Miwa; S. Miyaki; Y. Okamoto; K. Okuno; S. Saito; S. Sasaki; H. Shichi; H. Shinohara; F. Toujou; Y. Ueki; Y. Yamamoto
印刷ISSN0169-4332
文件大小147.06KB
发表时间2003
DOI10.1016/s0169-4332(02)00702-x
页码465-469

发现好书期刊，享受阅读乐趣

SIMS round-robin study of depth profiling of arsenic implants in silicon